光學(xué)器件用鋯靶材，主要是指用于物理氣相沉積（PVD），特別是磁控濺射工藝，以在高性能光學(xué)元件表面沉積特定功能薄膜的高純鋯金屬或鋯化合物材料。在精密光學(xué)領(lǐng)域，鋯以其高折射率、卓... 【詳情】

鋯靶材，作為一種高性能的濺射靶材，正在半導(dǎo)體與微電子領(lǐng)域展現(xiàn)出日益重要的價(jià)值。憑借鋯金屬及其化合物（如二氧化鋯、氮化鋯、硼化鋯）獨(dú)特的熱穩(wěn)定性、優(yōu)良的化學(xué)惰性、合適的電... 【詳情】

集成電路晶體管制造用鋯靶是以高純度金屬鋯（純度≥99.9%）或鋯合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）為材質(zhì)?，通過(guò)濺射鍍膜工藝制備的薄膜沉積材料，具有高熔點(diǎn)（1852℃）、耐腐蝕、低熱中子吸收截面及優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性?，需滿(mǎn)足高致密度、表面光滑無(wú)裂紋及尺寸精度（圓形/矩形規(guī)格）等標(biāo)準(zhǔn)?，主要用于MOSFET器件柵電極和金屬互連層，優(yōu)化導(dǎo)電性、熱穩(wěn)定性及集成密度?。... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標(biāo)準(zhǔn)： ASTM B551，GB/T21183牌號(hào)： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規(guī)格： 根據(jù)客戶(hù)需求定做 質(zhì)量認(rèn)證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標(biāo)準(zhǔn)： ASTM B551，GB/T21183牌號(hào)： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規(guī)格： 根據(jù)客戶(hù)需求定做 質(zhì)量認(rèn)證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材、鋯管靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：管靶應(yīng)用行業(yè)：鋯管靶具有熔點(diǎn)高，密度適中，良好的強(qiáng)度和塑性匹配，而... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶、鋯靶塊牌號(hào)：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺寸：平面靶、多弧靶、幫定靶材、圓柱，根據(jù)客戶(hù)圖紙加工。用途：鋯靶主要用于工具鍍... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材、鋯管靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：管靶應(yīng)用行業(yè)：鋯管靶具有熔點(diǎn)高，密度適中，良好的強(qiáng)度和塑性匹配，而... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶牌號(hào)：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺寸：平面靶、多弧靶、幫定靶材、圓柱，根據(jù)客戶(hù)圖紙加工。用途：高純鋯靶主要用于工具鍍膜、... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶管、鋯旋轉(zhuǎn)靶廠家：凱澤金屬材 質(zhì)：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸洗，剪切而成應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于消費(fèi)電子行業(yè), Low-e 玻璃鍍膜，觸摸屏鋯材標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B550 AS... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標(biāo)準(zhǔn)： ASTM B551，GB/T21183牌號(hào)： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： &ge;99.6%密度： 6.51g/cm3規(guī)格： 根據(jù)客戶(hù)需求定做 質(zhì)量認(rèn)證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶牌號(hào)：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺寸：平面靶、多弧靶、幫定靶材、圓柱，根據(jù)客戶(hù)圖紙加工。用途：高純鋯靶主要用于工具鍍膜、... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材 、鋯平面靶純度：99.6%類(lèi)型：平面靶材標(biāo)準(zhǔn)：國(guó)標(biāo)、美標(biāo)、德標(biāo)均可生產(chǎn)狀態(tài)：冷加工狀態(tài)生產(chǎn)工藝：海綿鋯-熔煉-鍛造-機(jī)加工-檢驗(yàn)-發(fā)貨表面狀態(tài)：光亮面發(fā)貨方式：快遞（客戶(hù)... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶管、鋯旋轉(zhuǎn)靶廠家：凱澤金屬材 質(zhì)：Zr純 度：99.98%晶粒度：<100um工藝：熱軋，冷軋，酸洗，剪切而成應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于消費(fèi)電子行業(yè), Low-e 玻璃鍍膜，觸摸屏鋯材標(biāo)準(zhǔn)：ASTM B550 AS... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材、鋯管靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：管靶應(yīng)用行業(yè)：鋯管靶具有熔點(diǎn)高，密度適中，良好的強(qiáng)度和塑性匹配，而... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶、鋯板靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：板靶應(yīng)用行業(yè)：鋯具有熔點(diǎn)高，密度適中，良好的強(qiáng)度和塑性匹配，而且熱中... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：板靶/圓靶/管靶應(yīng)用行業(yè)：鋯具有熔點(diǎn)高，密度適... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材，鋯多弧靶 ，鋯塊牌號(hào)：R60702、R60704、R60705執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T8769-2010用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號(hào)：R60702、R60704、R60705（Zr702、Zr704、Zr705）生產(chǎn)工藝：熱軋+冷軋+表面清洗+機(jī)加形狀：板靶/圓靶/管靶應(yīng)用行業(yè)：鋯具有熔點(diǎn)高，密度適... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鋯靶材、鋯多弧靶、鋯平面靶、鋯旋轉(zhuǎn)靶牌號(hào)：Zr60702、Zr60705執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T8769-2010用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，... 【詳情】

產(chǎn)品名稱(chēng)：鈦鋯靶材，鈦鋯多弧靶 ，鈦鋯靶塊牌號(hào)：TiZr 50:50執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T8769-2010用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。... 【詳情】

名稱(chēng)：鋯靶材、鋯多弧靶, 鋯平面靶，鋯旋轉(zhuǎn)靶牌號(hào)：Zr60702執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 8769-2010用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等... 【詳情】

名稱(chēng)：鋯靶材、鋯多弧靶, 鋯平面靶，鋯旋轉(zhuǎn)靶牌號(hào)：Zr60702執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 8769-2010用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等... 【詳情】